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LS中空轴APM-HB03HBH-CD

更新时间:2014-10-14   点击次数:2417次

LS中空轴APM-HB03HBH-CD

功率0.3KW,电压AC200V,400HZ

韩国迈克彼恩(LS-Mecapion)公司原名是韩国麦特斯(Metronix)株式会社是一家专业从事工业自动

化产品的研发,生产,销售及售后服务的高新技术企业。公司凭借的勇于探索的创新精神和对技术研究

一丝不苟的严谨态度在韩国国内业界被普遍认可。公司编码器产品现已占韩国国内*的85%以上

,伺服系统更是从无到有现已稳居韩国伺服*国产品牌地位。
福州欧士玛自动化设备有限公司多年来专注于在食品机械、印刷机械、纺织机械、橡塑胶行业、医疗设

备、医药包装、纸巾设备、数控机械手、CNC激光切割机、CNC数控机床、数控雕刻机、半导体等行业的

技术引进及产品的应用。
韩国LS spinner电机特点:APM-HB03HBH-SV、APM-HB03HBH-GY 、APM-HC03HCH、APM-HB01AAH 、APM-HB02AAH、APM-HB04AAH、APM-HC05HCH、APM-HC06HBH、APM-HE09ACH、、APM-HE1CH、APM-HB03HBH-CD、APM-VS04NL
产品规格:法兰尺寸:80mm-100mm   转速5000R-6000R  额定扭矩:0.62Nm-2.5Nm 额定功率:300W-

700W   涂胶&显影设备 蚀刻 清洗 去膜设备
开发完成半导体设备8"及12"晶圆用 spinner电机适用于涂胶,显影及清洗工程

实现率瞬间加速特性-100.000rps以上

可根据客户的要求,定做各种SPinner电机

按照客户的要求提供多种中空轴

采用磁性流体密封,强化耐环境性

表面进行特殊涂布处理,强化耐腐蚀性

应用范围:

  1,半导体制造工业

  2,设备应用

  A.曝光显影设备(涂胶,显影)光刻加工程序的主要设备及掌控涂层,曝光,显影。

  B.清洗、蚀刻设备用于蚀刻,清洗,去膜设备。

  C.清洗设备适用于物理冲洗清洁、颗粒清洗刷子、声控及喷雾工艺。

  技术含量

  设备条件

  高转速(5000rpm~8000rpm)真空轴

  加/减速时间冷却系统(水冷系统)

  低噪音和振动zui低公差

  中空轴尺寸zui小化处理按照客户需求柔性定制

  采用重叠设计是尺寸zui小化

LS中空轴APM-HB03HBH-CD